国产7nm芯片能生产了？制造工艺还有重复性，但未来中国芯有希望

1、“小笔记本电脑”技术开发国际标准内置

由里科院计算所、中国电信静电院里以及多家欧美笔记本电脑代工合作，共同制定的chiplet国际标准：《小笔记本电脑应用程序总线技术开发尽快》，早已虹过修订并公示，预估本年第一季度同年发布。

这比如说笔记本电脑填充技术开发某种程度，来解决笔记本电脑技术开发问题，并且是与英特尔等联合内置的小笔记本电脑国际标准UCIe，几乎同时订立。在chiplet技术开发应用领域涉及技术开发数据分析里，里国也某种程度终点站在了全球前列，为下一代抢占了先机。

2、正静电笔记本电脑

正静电笔记本电脑数据分析还是比较前沿的，里国赢取的才华也是相当程度的，下一代正静电笔记本电脑、光电笔记本电脑（传统静电与正静电子集的笔记本电脑），都是格外有意味著助力里国笔记本电脑逆袭。

欧美涉及才华：里科院在正静电集成功能筒方面，已重大项目十余年，现在早已赢取不错的技术开发跃进；山西太原光机所，占有全球上最高效率的氮氧化硅（silicon oxynitride）更高折射率碳纤维传输线技术开发；冯宁宁博士小组，则掌控了全球性最高效率的，更高功率及更高速硅光调制筒技术开发。

3、冰刻机技术开发

虽然说冰刻机有短板，暂时未能转用EUV光刻机，但可以解决的光刻胶的多项短板（如良品率更高、难整洁等)。具备这样的技术开发优势，对于穿越光刻机来说，也格外具有普遍性。

欧美的才华：西湖的学校仇旻教授小组，早已研制成成我国首台“冰刻”控制系统了，而冰刻控制系统2.0也在全力研制成之里。

4、普遍化笔记本电脑技术开发数据分析

现在普遍化笔记本电脑，还处于科学实验阶段，但该技术开发一旦能取得成功使用，将解构整个半导体服务业。因为普遍化笔记本电脑不需要光刻机生产，而且其相比一般来说笔记本电脑更大于好几百倍，功耗却更高到只有一般来说笔记本电脑的几分之一。

现在欧美技术开发才华：里科大郑光灿院士小组的相当程度跃进，2021年6月发布在International著名季刊【物理学华尔街日报慢速报】上，引起International产业界的追捧。

这新方向赢取的才华，都都是着欧美笔记本电脑数据分析从没人落下，非常是积极在寻求不一样的技术开发跃进。下一代，为里国在笔记本电脑应用领域的转弯超车，提供了非常多的意味著性。

因此，我们可以考虑到的是，靠高效率填充技术开发（笔记本电脑转换技术开发)，是可以倚靠国产7nm笔记本电脑（大相迳庭7nm性能）的试作。但这不是倚靠了高效率的7nm笔记本电脑生产材料，只是chiplet技术开发应用领域。

笔记本电脑生产技术开发尽快格外更高，它是一项繁琐、精细的材料流程，整个笔记本电脑生产体系有很多含量更高的技术开发，现在欧美这方面还处在初步阶段。但是不都是里国笔记本电脑很难渴望踏入高效率素质了，无论是多方向技术开发的研制成，还是笔记本电脑生产材料的整体其发展，都有希望让里国笔记本电脑的下一代非常有渴望。

对此，你怎么看呢？